晶圆光擦除UV装置

应用领域：EPROM/Wafer晶圆/IC芯片光擦除，晶圆光清洗制程，IC封装/贴合前清洁/改质等。
关键词：紫外光擦除系统，UV晶圆擦除设备，紫外线擦除器，紫外光擦除设备，晶圆擦除系统
产品优势：
1、具有高紫外光强输出，光照面更加均匀
2、专利结构，同时兼容8寸或者12寸晶圆；
3、紫外强度输出高达≥50000μW/cm²，擦除时间更快；
4、可根据擦除条件或应用要求提供专门的定制方案